基本信息:
- 专利标题： 在光致抗蚀剂底层上形成粘合层的方法及包括其的结构
- 申请号：CN202210409140.9 申请日：2022-04-19
- 公开(公告)号：CN115236937A 公开(公告)日：2022-10-25
- 发明人： 刘泽铖 , 吉田嵩志 , 久保田智广 , 福田秀明
- 申请人： ASM IP私人控股有限公司
- 申请人地址： 荷兰阿尔梅勒
- 专利权人： ASM IP私人控股有限公司
- 当前专利权人： ASM IP私人控股有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰阿尔梅勒
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 焦玉恒
- 优先权： 63/178,038 20210422 US
- 主分类号： G03F7/032
- IPC分类号： G03F7/032 ; G03F7/004 ; G03F7/16 ; G03F7/20
摘要：
公开了形成包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构的方法以及包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构。示例性方法包括使用循环沉积过程形成光致抗蚀剂底层和形成粘合层。粘合层可以在用于形成光致抗蚀剂底层的同一反应室内形成。