基本信息:
- 专利标题： 用于LRM系统的精密盲插结构设计方法
- 申请号：CN202210442962.7 申请日：2022-04-25
- 公开(公告)号：CN114925499B 公开(公告)日：2023-05-26
- 发明人： 陈春 , 范民 , 陈波 , 李杨 , 邓超 , 李甫迅 , 刘洋志 , 程圣 , 王伟年
- 申请人： 中国电子科技集团公司第二十九研究所
- 申请人地址： 四川省成都市金牛区营康西路496号
- 专利权人： 中国电子科技集团公司第二十九研究所
- 当前专利权人： 中国电子科技集团公司第二十九研究所
- 当前专利权人地址： 四川省成都市金牛区营康西路496号
- 代理机构： 成都九鼎天元知识产权代理有限公司
- 代理人： 刘世权
- 主分类号： G06F30/20
- IPC分类号： G06F30/20 ; H01R13/62 ; H01R13/73
摘要：
本发明公开了一种用于LRM系统的精密盲插结构设计方法，该方法包括将目标LRM系统中的若干个盲插组件进行层级架构构建；对每个层级架构内误差难控的盲插组件进行降低误差安装；对每个层级架构间及每个层级架构内的盲插组件进行固定限位安装；为每个层级架构单独构建基准坐标系，根据对应的基准坐标系进行安装；获取目标LRM系统的预设尺寸链，提取预设尺寸链的公差数据，利用蒙特卡罗法求取封闭环公差，以确定各尺寸链的最优公差值，并对尺寸链中的盲插组件进行安装。本发明通过对LRM系统的精密盲插提出了从基准设定、误差消除、公差优化等全过程、系统性的设计方法，采用本发明可实现LRM系统的盲插精度优于±0.15mm，一次性盲插成功率优于95％。
公开/授权文献:
- CN114925499A 用于LRM系统的精密盲插结构设计方法 公开/授权日：2022-08-19
IPC结构图谱:
| G06F30/20 | 设计优化、验证或模拟 |