基本信息:
- 专利标题： 聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光方法
- 申请号：CN202080085452.8 申请日：2020-12-10
- 公开(公告)号：CN114787225A 公开(公告)日：2022-07-22
- 发明人： 砂山梓纱 , 高冈信夫 , 服部和正 , 林浩一 , 加藤充 , 冈本知大 , 加藤晋哉
- 申请人： 株式会社可乐丽
- 申请人地址： 日本冈山县
- 专利权人： 株式会社可乐丽
- 当前专利权人： 株式会社可乐丽
- 当前专利权人地址： 日本冈山县
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 王利波
- 优先权： 2019-225695 20191213 JP
- 国际申请： PCT/JP2020/046159 2020.12.10
- 国际公布： WO2021/117834 JA 2021.06.17
- 进入国家日期： 2022-06-09
- 主分类号： C08G18/34
- IPC分类号： C08G18/34 ; B24B37/24 ; C08G18/65 ; H01L21/304
摘要：
本发明提供构成能够抑制堵塞、能够抑制损伤的发生并且能够稳定地以长寿命进行抛光的抛光层的聚氨酯、使用了该聚氨酯的抛光层、及抛光垫、以及抛光方法。本发明的聚氨酯具有至少1个以上的来自具有羧基的化合物的结构单元。另外，本发明还提供使用了该聚氨酯的抛光层、抛光垫、以及抛光方法。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |
| ------C08G18/00 | 异氰酸酯类或异硫氰酸酯类的聚合产物 |
| --------C08G18/06 | .与具有活性氢的化合物 |
| ----------C08G18/08 | ..工艺过程 |
| ------------C08G18/30 | ...低分子量化合物 |
| --------------C08G18/34 | ....羧酸；它与一元羟基化合物的酯 |