基本信息:
- 专利标题： 氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用
- 申请号：CN202111214188.6 申请日：2021-10-19
- 公开(公告)号：CN114720434A 公开(公告)日：2022-07-08
- 发明人： 吴伟 , 赵伟利 , 何海生 , 董肖椿 , 卢懿 , 戚建平 , 季鑫
- 申请人： 复旦大学
- 申请人地址： 上海市杨浦区邯郸路220号
- 专利权人： 复旦大学
- 当前专利权人： 复旦大学
- 当前专利权人地址： 上海市杨浦区邯郸路220号
- 代理机构： 上海元一成知识产权代理事务所
- 代理人： 吴桂琴
- 优先权： 2021100148831 20210106 CN
- 主分类号： G01N21/64
- IPC分类号： G01N21/64
摘要：
本发明属化学分析技术领域，涉及氮杂‑氟硼二吡咯甲川在制备测定临界胶束浓度的荧光指示剂中的应用，尤其是式(Ⅰ)或(II)结构的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物在制备测定两亲性表面活性物质临界胶束浓度中的应用。所述的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物具有在表面活性物质CMC以下无荧光的特征，以及吸收和荧光发射波长长，量子产率高，化学和光学性质稳定，并且在CMC下受散射和背景荧光干扰小，因此荧光突变更显著，测定终点更容易判断，准确度更高。本发明适用于正、负离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两亲性嵌段聚合物CMC的测定，适用的CMC范围从毫摩尔浓度(mM)至纳摩尔浓度(nM)，尤其适用于具有极低CMC值的两亲性嵌段聚合物的测定。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/63 | ..光学激发的 |
| ------------G01N21/64 | ...荧光；磷光 |