
基本信息:
- 专利标题: 吡唑并嘧啶类化合物的制备方法及其中间体
- 申请号:CN202080069538.1 申请日:2020-10-30
- 公开(公告)号:CN114641478A 公开(公告)日:2022-06-17
- 发明人: 王建非 , 孙继奎 , 杨广文 , 张杨 , 黎健 , 陈曙辉
- 申请人: 先声药业有限公司
- 申请人地址: 江苏省南京市江北新区华康路99号
- 专利权人: 先声药业有限公司
- 当前专利权人: 上海先纬医药科技有限公司
- 当前专利权人地址: 201107 上海市闵行区闵北路88弄1-30号104幢1层A区
- 优先权: 2019110452690 20191030 CN
- 国际申请: PCT/CN2020/125371 2020.10.30
- 国际公布: WO2021/083345 ZH 2021.05.06
- 进入国家日期: 2022-04-29
- 主分类号: C07D487/04
- IPC分类号: C07D487/04 ; C07D261/02
摘要:
本发明公开了一种吡唑并嘧啶类化合物的制备方法,本发明还公开了式(I)化合物及其中间体化合物的制备方法。
公开/授权文献:
- CN114641478B 吡唑并嘧啶类化合物的制备方法及其中间体 公开/授权日:2024-07-02
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C07 | 有机化学 |
----C07D | 杂环化合物 |
------C07D487/00 | 在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物,不包含在C07D451/00至C07D477/00组中 |
--------C07D487/02 | .在稠合系中含有两个杂环 |
----------C07D487/04 | ..邻位稠合系 |