基本信息:
- 专利标题： 一种可完全降解回收的3D打印制件及其制备方法与应用
- 申请号：CN202011384127.X 申请日：2020-12-01
- 公开(公告)号：CN114573986A 公开(公告)日：2022-06-03
- 发明人： 侯仪 , 朱光达 , 赵宁 , 徐坚
- 申请人： 中国科学院化学研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 代理机构： 北京知元同创知识产权代理事务所
- 代理人： 吕少楠
- 主分类号： C08L83/04
- IPC分类号： C08L83/04 ; C08L27/18 ; C08L83/07 ; C08L83/08 ; C08L83/06 ; C08K3/36 ; C08K3/04 ; C08K3/34 ; C08K3/08 ; C08K3/22 ; B33Y70/10
摘要：
本发明公开一种可完全降解回收的3D打印制件及其制备方法与应用。所述制件由下述组合物体系制备得到：(A)硅氧烷水解液与碱溶液的混合分散液；(B)低表面能聚合物溶液；和(C)无机填料。本发明提供的3D打印制件在加热条件下可在水或含水溶剂中完全降解成单体，实现制件的完全降解回收，回收方法简便，回收效率高；可重复利用，进行多次3D打印成型，材料利用率高。
公开/授权文献:
- CN114573986B 一种可完全降解回收的3D打印制件及其制备方法与应用 公开/授权日：2023-04-07
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08L | 高分子化合物的组合物 |
| ------C08L83/00 | 由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物 |
| --------C08L83/04 | .聚硅氧烷 |