专利号CN202011344831.2 | 大豆间座壳菌提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途

专利标题：大豆间座壳菌提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途
申请号：CN202011344831.2 申请日：2020-11-26
公开(公告)号：CN114533769B 公开(公告)日：2023-04-25
发明人：柯宏慧 , 张训硕 , 陈宜芳 , 杨舜心 , 林品妤 , 林秀芳 , 李政明 , 谢松源 , 郑铭仁 , 吴明德
申请人：高雄医学大学 , 财团法人食品工业发展研究所
申请人地址：中国台湾高雄市三民区十全一路100号;
专利权人：高雄医学大学,财团法人食品工业发展研究所
当前专利权人：高雄医学大学,财团法人食品工业发展研究所
当前专利权人地址：中国台湾高雄市三民区十全一路100号;
代理机构：广州文冠倪律知识产权代理事务所
代理人：杨娅莉; 张玉颖
主分类号： A61K31/015
IPC分类号： A61K31/015 ; A61K8/9728 ; A61K36/062 ; A61P17/16 ; A61P17/00 ; A61P17/18 ; A61P35/00 ; A61Q17/04 ; A61Q19/02 ; A61Q19/08 ; A61Q19/00

摘要：

本发明提供一种大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物用于制备抗紫外线伤害及减少色素沉着的组合物的用途。本发明也提供一种分离自大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物的新颖化合物，以及包含该化合物的组合物。

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