基本信息:
- 专利标题： 玻璃基板清洗方法及清洗设备
- 申请号：CN202111475711.0 申请日：2021-12-06
- 公开(公告)号：CN114392999A 公开(公告)日：2022-04-26
- 发明人： 李青 , 李赫然 , 林海峰 , 吴亚平 , 翟星宇 , 董光明 , 陈涛涛 , 石志强 , 李震
- 申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司 , 北京远大信达科技有限公司
- 申请人地址： 安徽省芜湖市经济技术开发区万春街道纬二次路36号; ;
- 专利权人： 芜湖东旭光电科技有限公司,东旭光电科技股份有限公司,北京远大信达科技有限公司
- 当前专利权人： 芜湖东旭光电科技有限公司,东旭光电科技股份有限公司,北京远大信达科技有限公司
- 当前专利权人地址： 安徽省芜湖市经济技术开发区万春街道纬二次路36号; ;
- 代理机构： 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- 代理人： 赵洋; 刘铁生
- 主分类号： B08B11/04
- IPC分类号： B08B11/04 ; B08B3/02 ; B08B3/12 ; B08B3/08 ; B08B5/02 ; B08B1/02 ; B08B13/00
摘要：
本申请公开了一种玻璃基板清洗方法及清洗设备，玻璃基板清洗方法包括如下步骤初步清洗玻璃基板；一次吹扫所述玻璃基板；盘刷清洗所述玻璃基板；二次吹扫所述玻璃基板；复洗并干燥所述玻璃基板；对所述玻璃基板除静电。通过对玻璃基板进行初步清洗、一次吹扫后进行盘刷清洗，以实现对玻璃基板表面的颗粒和杂质进行初步清除，避免其被带入盘刷清洗流程对玻璃基板表面造成划伤；同时在盘刷清洗后先经过二次吹扫再进行复洗和干燥，进一步地保证玻璃基板表面的清洁度且保证清洁效果，避免盘刷清洗过程中存在残留的清洗剂影响后续工序；再者除静电的设置也能够防止玻璃基板吸附杂质，再次提高玻璃基板的清洗效果。
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B08 | 清洁 |
| ----B08B | 一般清洁；一般污垢的防除 |
| ------B08B11/00 | 专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置 |
| --------B08B11/04 | .专门用于平板玻璃的，如加工挡风玻璃前用的 |