基本信息:
- 专利标题： 有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物
- 申请号：CN202111162164.0 申请日：2021-09-30
- 公开(公告)号：CN114380849B 公开(公告)日：2024-05-24
- 发明人： 郡大佑 , 泽村昂志 , 佐藤裕典
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人： 刘新宇; 李茂家
- 主分类号： C07D519/00
- IPC分类号： C07D519/00 ; G03F7/004 ; G03F7/09
摘要：
本发明涉及有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明的课题提供不仅在空气中会硬化，在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，可形成耐热性、于基板所形成的图案的填埋、平坦化特性优异，而且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜的酰亚胺化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物；及(B)有机溶剂。[化1]
公开/授权文献:
- CN114380849A 有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物 公开/授权日：2022-04-22
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D519/00 | 杂环化合物，含有1个以上的由两个或更多个相关杂环组成的环系，杂环间彼此稠合，或与1个共同碳环系稠合，不包含在C07D453/00或C07D455/00组内 |