![一种n掺杂增强铟镓硫基可见光探测器及其制备方法](/CN/2021/1/269/images/202111349724.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种n掺杂增强铟镓硫基可见光探测器及其制备方法
- 申请号:CN202111349724.3 申请日:2021-11-15
- 公开(公告)号:CN114242818B 公开(公告)日:2024-03-22
- 发明人: 李国强 , 郑昱林 , 柴吉星 , 吴青
- 申请人: 华南理工大学
- 申请人地址: 广东省广州市天河区五山路381号
- 专利权人: 华南理工大学
- 当前专利权人: 华南理工大学
- 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区五山路381号
- 代理机构: 广州市华学知识产权代理有限公司
- 代理人: 陈智英
- 主分类号: H01L31/032
- IPC分类号: H01L31/032 ; H01L31/105 ; H01L31/18
摘要:
本发明属于可见光探测器的技术领域,公开了一种n掺杂增强铟镓硫基可见光探测器及其制备方法。所述可见光探测器自下至上依次包括基底、Sn掺杂的n型InxGa2‑xS3层、本征i‑InxGa2‑xS3层、p型InxGa2‑xS3层;本征i‑InxGa2‑xS3层部分覆盖Sn掺杂的n型InxGa2‑xS3层;n电极设置在未被覆盖的n型InxGa2‑xS3层上表面的一侧,p电极设置在p型InxGa2‑xS3层上。本发明还公开了可见光探测器的制备方法。本发明采用Sn作为n型掺杂源,实现了原位生长n型掺杂铟镓硫半导体,增强了光吸收,提高了光生载流子的密度和传输时间,获得了高灵敏的可见光探测器。
公开/授权文献:
- CN114242818A 一种n掺杂增强铟镓硫基可见光探测器及其制备方法 公开/授权日:2022-03-25
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L31/00 | 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备;其零部件 |
--------H01L31/02 | .零部件 |
----------H01L31/0256 | ..以材料为特征的 |
------------H01L31/0264 | ...无机材料 |
--------------H01L31/032 | ....除掺杂或其他杂质外,只包含未列入H01L31/0272至H01L31/0312各组的化合物 |