基本信息:
- 专利标题： 基于水平集算法的超分辨光刻逆向光学邻近效应修正方法
- 申请号：CN202111594444.9 申请日：2021-12-23
- 公开(公告)号：CN114200768A 公开(公告)日：2022-03-18
- 发明人： 罗先刚 , 孔维杰 , 刘相志 , 尹格 , 王长涛
- 申请人： 中国科学院光电技术研究所
- 申请人地址： 四川省成都市双流350信箱
- 专利权人： 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人： 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人地址： 四川省成都市双流350信箱
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 李世阳
- 主分类号： G03F1/36
- IPC分类号： G03F1/36 ; G03F7/20
摘要：
本公开提供一种基于水平集算法的超分辨光刻逆向光学邻近效应修正方法，包括：根据目标图形得到第一掩模数据，并构建水平集函数；进行正向仿真，得到光刻胶上的电场分布、掩模上的第一结构矢量电场分布；根据光刻胶上的电场分布得到光刻胶图形，计算光刻胶图形与目标图形的成像误差；进行伴随仿真，得到第二结构矢量电场分布；根据第一结构矢量电场分布、第二结构矢量电场分布及成像误差计算得到水平集梯度；使用水平集梯度对水平集函数进行演化，并更新得到第二掩模数据，使用第二掩模数据进行迭代计算，直至获得满足预设条件的掩模数据，完成逆向光学邻近效应的修正。本公开还提供一种表面等离激元超分辨的光刻方法、逆向光学邻近效应修正系统。
公开/授权文献:
- CN114200768B 基于水平集算法的超分辨光刻逆向光学邻近效应修正方法 公开/授权日：2023-05-26