基本信息:
- 专利标题： 一种表面具有微纳多孔结构的有机硅涂层及其制备方法
- 申请号：CN202111389338.7 申请日：2021-11-22
- 公开(公告)号：CN114196319A 公开(公告)日：2022-03-18
- 发明人： 张家强 , 王兵存 , 白晶莹 , 崔庆新 , 张立功 , 平托 , 蒋明霞 , 孙浩然 , 时洪彪
- 申请人： 北京卫星制造厂有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区知春路63号
- 专利权人： 北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人： 北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区知春路63号
- 代理机构： 中国航天科技专利中心
- 代理人： 孙建玲
- 主分类号： C09D183/04
- IPC分类号： C09D183/04 ; C09D7/61 ; C09D7/20 ; B05D7/24
摘要：
本发明提供了一种表面具有微纳多孔结构的有机硅涂层及其制备方法，包括如下质量配比的组分：有机硅树脂100份；催化剂1～2份；纳米填料n份；固化剂(3～5)+n份；混合溶剂400～800份；其中，n＝0～3；所述混合溶剂包括水、亲水性有机溶剂、以及憎水性有机溶剂。制备时，通过空气喷涂的方式直接在基材或产品的表面制备形成具有微纳米多孔结构的有机硅涂层，在提高材料的抗反射性能、超疏水性能等方面具有重要的应用。