基本信息:
- 专利标题： 一种激光扫描光学系统
- 申请号：CN202111665722.5 申请日：2021-12-31
- 公开(公告)号：CN114101900A 公开(公告)日：2022-03-01
- 发明人： 秦应雄 , 许文强 , 王拂煦 , 李恒阳
- 申请人： 华中科技大学
- 申请人地址： 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 专利权人： 华中科技大学
- 当前专利权人： 华中科技大学
- 当前专利权人地址： 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 代理机构： 华中科技大学专利中心
- 代理人： 胡秋萍
- 主分类号： B23K26/06
- IPC分类号： B23K26/06 ; B23K26/082
摘要：
本发明公开了一种激光扫描光学系统，属于激光加工技术领域，包括第一光楔和第二光楔，且第一光楔的旋转轴、第二光楔的旋转轴以及光轴两两互相垂直；在扫描信号的控制下，第一光楔和第二光楔分别在相互垂直的两个方向上进行旋转，光楔在旋转时可以微调激光出射时的偏角，从而控制激光的焦点沿x轴和y轴方向移动。激光偏转角改变量与光楔旋转角改变量近似为二次函数关系。例如，使用波长为532nm的激光，在100mm聚焦场镜条件，楔角为10°的光楔可以使位置调节精度从1um提高到10nm，可以实现比反射镜控制更高精度的激光角向控制，从而实现高精度的激光扫描，进而提高了激光加工的精度。
公开/授权文献:
- CN114101900B 一种激光扫描光学系统 公开/授权日：2023-03-10