基本信息:
- 专利标题： 一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法
- 申请号：CN202111255505.9 申请日：2021-10-27
- 公开(公告)号：CN113957380A 公开(公告)日：2022-01-21
- 发明人： 王启民 , 杨阳 , 张世宏 , 郑军 , 周祥 , 门尚武
- 申请人： 安徽工业大学
- 申请人地址： 安徽省马鞍山市湖东路59号
- 专利权人： 安徽工业大学
- 当前专利权人： 安徽工业大学
- 当前专利权人地址： 安徽省马鞍山市湖东路59号
- 代理机构： 合肥昊晟德专利代理事务所
- 代理人： 王林
- 主分类号： C23C8/38
- IPC分类号： C23C8/38 ; C23C8/02
摘要：
本发明涉及等离子体渗氮技术领域，具体涉及一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法：对试样抛光至镜面并清洗、烘干后装载入炉内，打开真空泵，抽真空至5.0×10‑2Pa；电阻加热开启，炉温升温至渗氮所需温度400～550℃；通入氩气，加电压700‑800V，电离氩气形成辉光等离子体清洗试样表面，去除材料表面的氧化物等杂质，激活材料表面；接着利用柱弧源产生的弧光等离子体中的电子流电离氩气，进行二次激活，柱弧靶电流为100～200A；通入氮气，柱弧靶电流维持在100～200A，气压维持在1～3Pa，工件接负偏压300‑500V，形成的氮离子进行渗氮，渗氮速率远高于辉光等离子体渗氮，渗氮层表面粗糙度低，表面质量高，力学性能和摩擦磨损性能优于传统辉光等离子体渗氮术。