基本信息:
- 专利标题： 用于原位电磁感应监测系统的芯配置
- 申请号：CN202110534178.4 申请日：2017-10-05
- 公开(公告)号：CN113714934B 公开(公告)日：2024-04-26
- 发明人： H·G·伊拉瓦尼 , K·徐 , D·伊万诺夫 , S-H·沈 , B·A·斯韦德克
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 汪骏飞; 张鑫
- 主分类号： B24B49/04
- IPC分类号： B24B49/04 ; B24B49/10 ; G01N27/02 ; H01L21/66
摘要：
一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中心柱在与所述抛光表面正交的第一方向上从所述后部延伸，所述环形边缘平行于所述中心柱地从所述后部延伸并且所述环形边缘围绕所述中心柱且与所述中心柱以一间隙间隔开。所述间隙的宽度小于所述中心柱的宽度，且所述环形边缘的顶表面的表面积比所述中心柱的顶表面的表面积大至少两倍。
公开/授权文献:
- CN113714934A 用于原位电磁感应监测系统的芯配置 公开/授权日：2021-11-30