![有机溶剂的精制方法和有机溶剂的精制装置](/CN/2020/8/3/images/202080017330.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 有机溶剂的精制方法和有机溶剂的精制装置
- 申请号:CN202080017330.5 申请日:2020-04-01
- 公开(公告)号:CN113490658A 公开(公告)日:2021-10-08
- 发明人: 高田智子 , 横田治雄 , 盐谷惟 , 吉村康博
- 申请人: 奥加诺株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都江东区新砂1丁目2番8号
- 专利权人: 奥加诺株式会社
- 当前专利权人: 奥加诺株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都江东区新砂1丁目2番8号
- 代理机构: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司
- 代理人: 孙明; 王刚
- 优先权: 2019-085989 20190426 JP
- 国际申请: PCT/JP2020/015101 2020.04.01
- 国际公布: WO2020/217911 JA 2020.10.29
- 进入国家日期: 2021-08-27
- 主分类号: C07C29/76
- IPC分类号: C07C29/76 ; C07C31/10 ; B01J45/00 ; B01J39/05 ; B01J39/20 ; B01J41/05 ; B01J41/07 ; B01J41/14 ; B01J47/026 ; B01J47/028 ; B01J47/04
摘要:
本发明提供一种有机溶剂的精制方法,其特征在于,具有:第一处理工序,其中,使被处理有机溶剂与H型阳离子交换体(1)接触;以及第二处理工序,其中,使上述第一处理工序的处理液与阴离子交换体(2)和H型强酸性阳离子交换体(3)接触。根据本发明,能够提供对有机溶剂中的1价和多价这两种金属种的金属杂质的除去性优异的有机溶剂的精制方法和精制装置。
公开/授权文献:
- CN113490658B 有机溶剂的精制方法 公开/授权日:2023-12-05