基本信息:
- 专利标题： 曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法
- 申请号：CN202080011094.6 申请日：2020-03-04
- 公开(公告)号：CN113439236B 公开(公告)日：2024-06-04
- 发明人： 吉田亮平 , 井田真高 , 吉田大辅 , 野嶋琢己 , 松桥佑介 , 渡辺畅章
- 申请人： 株式会社尼康
- 申请人地址： 日本东京港区港南二丁目15番3号
- 专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人地址： 日本东京港区港南二丁目15番3号
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 王蕊; 臧建明
- 国际申请： PCT/JP2020/009124 2020.03.04
- 国际公布： WO2020/203002 JP 2020.10.08
- 进入国家日期： 2021-07-27
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提供一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法，可防止第二区域内的经转印的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与第一时间不同的第二时间内对被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与扫描方向正交的非扫描方向上，以第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。
公开/授权文献:
- CN113439236A 曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 公开/授权日：2021-09-24