基本信息:
- 专利标题： 曝光装置
- 申请号：CN201980088088.8 申请日：2019-12-16
- 公开(公告)号：CN113272737B 公开(公告)日：2024-03-15
- 发明人： 吉田亮平 , 井田真高 , 吉田大辅 , 野嶋琢己 , 松桥佑介 , 渡辺畅章
- 申请人： 株式会社尼康
- 申请人地址： 日本东京港区港南二丁目15番3号
- 专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人地址： 日本东京港区港南二丁目15番3号
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 杨文娟; 臧建明
- 国际申请： PCT/JP2019/049137 2019.12.16
- 国际公布： WO2020/145044 JA 2020.07.16
- 进入国家日期： 2021-07-06
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
在一部分感光材料中，在时间上分割为多段而进行曝光的情形下，与在时间上连续地进行曝光的情形下相比，实效感光量有时会降低。在使用此种材料进行连接曝光的情形下，在重叠部分与非重叠部分，因实效感光量不同，故存在被转印的图案的线宽或厚度变化的课题。因此，为了解决所述课题，在以由投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对被曝光基板进行扫描曝光的方式构成的曝光装置中，在照明光学系统或投影光学系统设有照度变更构件(10c1、10c2)，所述照度变更构件(10c1、10c2)设定为：与在被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。
公开/授权文献:
- CN113272737A 曝光装置 公开/授权日：2021-08-17