基本信息:
- 专利标题： 一种单原子内嵌富勒烯及其原位合成方法
- 申请号：CN202110681104.3 申请日：2021-06-18
- 公开(公告)号：CN113233442A 公开(公告)日：2021-08-10
- 发明人： 周珅 , 谢方 , 程海峰 , 王珊珊 , 袁嘉悦 , 刘东青 , 祖梅 , 余金山
- 申请人： 中国人民解放军国防科技大学
- 申请人地址： 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 专利权人： 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人： 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人地址： 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 代理机构： 长沙国科天河知识产权代理有限公司
- 代理人： 邱轶
- 主分类号： C01B32/154
- IPC分类号： C01B32/154
摘要：
本发明公开一种单原子内嵌富勒烯及其原位合成方法，该内嵌富勒烯的内嵌原子为氮、氦、氩和氙等之中的至少一种；该制备方法首先将富勒烯原料升华为气态并沉积在铜箔上形成富勒烯薄膜，接着通过考夫曼离子源将反应室内的非金属气体或惰性气体电离，含正离子气氛经过离子枪屏极与加速极，加速形成含非金属或惰性气体正离子的离子束，最后该离子束经过中和电极发射出来的电子中和后，轰击在铜箔上沉积的富勒烯薄膜，获得内嵌富勒烯。本发明提供的制备方法过程简单、制备成本较低，且该制备方法结果稳定，可获得可重复的结果，通过本发明提供的制备方法可制备获得内嵌富勒烯。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C01 | 无机化学 |
| ----C01B | 非金属元素；其化合物 |
| ------C01B32/00 | 碳；其化合物 |
| --------C01B32/15 | .纳米级碳材料 |
| ----------C01B32/152 | ..富勒烯 |
| ------------C01B32/154 | ...制备 |