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基本信息:
- 专利标题: 微米级功能结构的振动铁磁流体超精密抛光装置及方法
- 申请号:CN202110428045.9 申请日:2021-04-21
- 公开(公告)号:CN113172487A 公开(公告)日:2021-07-27
- 发明人: 肖峻峰 , 许剑锋 , 杜梦丹 , 汪学方 , 张建国 , 张雨雨 , 吴佳理 , 耿士雄
- 申请人: 华中科技大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市武昌珞喻路1037号华中科技大学
- 专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武昌珞喻路1037号华中科技大学
- 代理机构: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
- 代理人: 许美红
- 主分类号: B24B1/04
- IPC分类号: B24B1/04 ; B24B29/02
摘要:
本发明公开了一种微米级功能结构的振动铁磁流体超精密抛光方法,包括以下步骤:在待抛光工件的微结构中注入抛光液,抛光液包括铁磁流体、非磁性磨粒和水;通过磁场聚焦机构将外加磁场聚焦在工件的特定抛光部位,并控制外加磁场或工件的振动及运动轨迹,抛光液中铁磁流体在磁场的作用下限制非磁性磨粒自由移动,使非磁性磨粒始终垂直于微结构形貌振动打磨并沿微结构形貌走向运动打磨。本发明通过将磁场聚焦于待抛光微结构特定部位,用以控制磨粒在小范围特定区域抛光,根据加工工况,控制形成不同大小、形状的聚焦磁场,等同于“柔性抛光磨头”大小、形状可控。
IPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B24 | 磨削;抛光 |
----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给 |
------B24B1/00 | 磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备 |
--------B24B1/04 | .使磨削或抛光工具,研磨或抛光介质或工件受振动,例如超声波磨削 |