基本信息:
- 专利标题： 形成EUVL防尘薄膜的方法
- 申请号：CN202011525399.7 申请日：2020-12-22
- 公开(公告)号：CN113093471A 公开(公告)日：2021-07-09
- 发明人： M·蒂默曼斯 , C·惠耿巴尔特 , I·波兰迪亚 , E·查普曼斯 , E·加拉赫
- 申请人： IMEC 非营利协会
- 申请人地址： 比利时勒芬
- 专利权人： IMEC 非营利协会
- 当前专利权人： IMEC 非营利协会
- 当前专利权人地址： 比利时勒芬
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 王颖; 蔡文清
- 优先权： 19219382.9 20191223 EP
- 主分类号： G03F1/62
- IPC分类号： G03F1/62
摘要：
根据本发明概念的一个方面，提供一种用于形成EUVL防尘薄膜的方法，该方法包括：对碳纳米管(CNT)膜片进行涂覆；以及将CNT膜片安装到防尘薄膜框架上，其中，对CNT膜片进行涂覆包括：用种子材料对膜片的CNT进行预涂覆；以及在预涂覆的CNT上形成外涂层，外涂层覆盖了预涂覆的CNT，外涂层的形成包括：通过原子层沉积使得涂料材料沉积在预涂覆的CNT上。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |
| --------G03F1/62 | .薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备 |