基本信息:
- 专利标题： 一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用
- 申请号：CN202110395963.6 申请日：2021-04-13
- 公开(公告)号：CN113047326B 公开(公告)日：2021-12-07
- 发明人： 王建秀 , 吴凡 , 李胡博强 , 龙燕霞 , 武昭 , 刘笑天 , 龙冠宏 , 何倩倩 , 薛睿 , 徐娜
- 申请人： 同济大学
- 申请人地址： 上海市杨浦区四平路1239号
- 专利权人： 同济大学
- 当前专利权人： 同济大学
- 当前专利权人地址： 上海市杨浦区四平路1239号
- 代理机构： 上海科盛知识产权代理有限公司
- 代理人： 蒋亮珠
- 主分类号： E02D19/16
- IPC分类号： E02D19/16 ; C09K17/42
摘要：
本发明涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用，该装置包括：至少一个回灌井水驱机构，用于将水灌入基坑底部土层，并形成驱动渗流场，以驱动后续浆液的定向扩散运移；多个回灌井注入机构，用于向土层中灌入浆液；帷幕形成机构，用于向回灌井注入机构中提供浆液；所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井(15)，所述的回灌井注入机构包括注入回灌井(23)和中心回灌井，所述的注入回灌井(23)分布在内圈回灌井(15)的外圈，所述的中心回灌井位于内圈回灌井(15)内圈。与现有技术相比，本发明能够实现超深基坑的水平减渗帷幕的形成，对于目前技术无法施作水平帷幕的超深基坑实现良好隔水效果有重大意义。
公开/授权文献:
- CN113047326A 一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用 公开/授权日：2021-06-29
IPC结构图谱:
| E | 固定建筑物 |
| --E02 | 水利工程；基础；疏浚 |
| ----E02D | 基础；挖方；填方；地下或水下结构物 |
| ------E02D19/00 | 保持地下基础地段或其他面积的干燥 |
| --------E02D19/02 | .露天水的节制 |
| ----------E02D19/12 | ..通过阻止和截断地下水流 |
| ------------E02D19/16 | ...通过放置或添加密封物质 |