基本信息:
- 专利标题： 抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法
- 申请号：CN202011474716.7 申请日：2020-12-14
- 公开(公告)号：CN112987497A 公开(公告)日：2021-06-18
- 发明人： 平野智之 , 米村幸治 , 中川裕介
- 申请人： 东京应化工业株式会社
- 申请人地址： 日本国神奈川县
- 专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国神奈川县
- 代理机构： 上海立群专利代理事务所
- 代理人： 陈亦欧; 毛立群
- 优先权： 2019-227234 20191217 JP
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/004
摘要：
一种负型抗蚀剂组合物，含有：具有包含酚羟基的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、以下述通式(b0‑1)表示的产酸剂(B0)、交联剂(C)、在分子内具有1个或2个酚羟基且不具有羧基的芳香族化合物(Z)(式中，Rb1为有机基团，Rb2是以下述通式(b0‑r‑1)或下述通式(b0‑r‑2)表示的基团)。[化1]