
基本信息:
- 专利标题: 抛光层用聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光层的改性方法
- 申请号:CN201980067771.3 申请日:2019-11-01
- 公开(公告)号:CN112839985A 公开(公告)日:2021-05-25
- 发明人: 砂山梓纱 , 加藤充 , 竹越穰 , 冈本知大 , 加藤晋哉
- 申请人: 株式会社可乐丽
- 申请人地址: 日本冈山县
- 专利权人: 株式会社可乐丽
- 当前专利权人: 株式会社可乐丽
- 当前专利权人地址: 日本冈山县
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理人: 王轩
- 优先权: 2018-211758 20181109 JP
- 国际申请: PCT/JP2019/043003 2019.11.01
- 国际公布: WO2020/095832 JA 2020.05.14
- 进入国家日期: 2021-04-14
- 主分类号: C08J7/12
- IPC分类号: C08J7/12 ; C08G18/34 ; C08G18/38 ; C08G18/65 ; B24B37/24 ; H01L21/304
摘要:
本发明提供具有羧酸酯基的抛光层用聚氨酯,优选使用在侧链、主链末端及主链骨架中的至少一者具有羧酸酯基的聚氨酯。另外,本发明提供一种抛光层的改性方法,该方法包括:准备包含具有羧酸酯基的聚氨酯的抛光层的工序;以及使聚氨酯的羧酸酯基水解而生成羧酸基的工序。
公开/授权文献:
- CN112839985B 抛光层用聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光层的改性方法 公开/授权日:2023-10-20
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C08 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物 |
----C08J | 加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理 |
------C08J7/00 | 高分子物质成形制品的化学处理或涂层 |
--------C08J7/12 | .化学改性 |