基本信息:
- 专利标题： 图案化波长选择性膜
- 申请号：CN201980048837.4 申请日：2019-07-23
- 公开(公告)号：CN112470042A 公开(公告)日：2021-03-09
- 发明人： 陈葵 , 道格拉斯·S·邓恩 , 蒂安·Y·T·H·怀廷 , 布赖恩·T·怀廷 , 泰勒·J·科比 , 安东尼·F·舒尔茨 , 杜安·D·范斯勒 , 乔纳·谢弗 , 约翰·A·惠特利 , 苏姗娜·C·克利尔 , 丹尼尔·J·泰斯 , 约翰·T·施特兰德 , 托马斯·J·梅茨勒 , 凯文·W·戈特里克 , 斯科特·J·琼斯
- 申请人： 3M创新有限公司
- 申请人地址： 美国明尼苏达州
- 专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理人： 顾红霞; 张芸
- 优先权： 62/702,672 20180724 US
- 国际申请： PCT/IB2019/056302 2019.07.23
- 国际公布： WO2020/021459 EN 2020.01.30
- 进入国家日期： 2021-01-21
- 主分类号： G02B1/115
- IPC分类号： G02B1/115
摘要：
本发明所公开的图案化波长选择性材料和用于制备该图案化波长选择性材料的方法使用图案化施加的粘合剂和结构薄弱的波长选择性材料，该结构薄弱的波长选择性材料包括接触粘合剂并断裂以保持与粘合剂接触的部分。在一个实施方案中，波长选择性材料包括具有切口的区段的阵列，该切口在固定到粘合剂的每个区段处至少部分地穿过波长选择性膜。在另一个实施方案中，该波长选择性膜包括转移层叠堆。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层 |
| --------G02B1/10 | .对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层 |
| ----------G02B1/11 | ..抗反射涂层 |
| ------------G02B1/113 | ...仅使用无机材料 |
| --------------G02B1/115 | ....多层 |