基本信息:
- 专利标题： 加工液循环装置
- 申请号：CN202010812417.3 申请日：2020-08-13
- 公开(公告)号：CN112390429B 公开(公告)日：2024-07-12
- 发明人： 斋藤淳 , 吉田干
- 申请人： 株式会社迪思科
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社迪思科
- 当前专利权人： 株式会社迪思科
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理人： 乔婉; 于靖帅
- 主分类号： C02F9/00
- IPC分类号： C02F9/00 ; B23Q11/10 ; C02F103/16 ; C02F101/30 ; C02F1/00 ; C02F1/32 ; C02F1/42
摘要：
本发明提供加工液循环装置，防止停止状态的加工液循环装置的容器等中所积存的加工废液的杂菌繁殖。提供包含紫外线照射单元以及清洗单元的加工液循环装置。紫外线照射单元具有：紫外线灯；石英玻璃管，其形成围绕灯外侧且能够导入或排出气体的第1空间；以及框体，其形成围绕玻璃管外侧且能够导入或排出清水的第2空间。清洗单元具有：氧投入单元，其使氧进入至第1空间；第1配管，其将第2空间与清水容器连通；以及第2配管，其将紫外线照射单元与废液容器连通。将对进入至第1空间的氧照射紫外线而生成的臭氧混合至清水容器的清水而生成臭氧水，将该臭氧水导入至废液容器，在从废液容器至清水泵为止的通水路径中循环而进行清洗。
公开/授权文献:
- CN112390429A 加工液循环装置 公开/授权日：2021-02-23
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C02 | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ----C02F | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ------C02F9/00 | 水、废水或污水的多级处理 |