基本信息:
- 专利标题： 一种磷源恒温设备
- 申请号：CN202011437487.1 申请日：2020-12-11
- 公开(公告)号：CN112309924A 公开(公告)日：2021-02-02
- 发明人： 李铁
- 申请人： 李铁
- 申请人地址： 黑龙江省佳木斯市向阳区永新社区38组66号
- 专利权人： 李铁
- 当前专利权人： 江苏沃宏装备有限公司
- 当前专利权人地址： 214100 江苏省无锡市无锡新加坡工业园行创四路19-8号厂房
- 代理机构： 南京科知维创知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 许益民
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L31/18 ; G01N33/00 ; B65D25/02
摘要：
本发明提供一种磷源恒温设备，包括外壳、恒温箱体和控制模块；还包括三氯氧磷气体检测探头和应急抽排风装置，三氯氧磷气体检测探头设于恒温箱体的内壁，用于对恒温箱体内部的三氯氧磷气体浓度进行检测，三氯氧磷气体检测探头与控制模块电连接；应急抽排风装置包括漩涡气泵，漩涡气泵与控制模块电连接。本发明的磷源恒温设备设置三氯氧磷气体检测探头，用于检测恒温箱体内的三氯氧磷气体浓度，当三氯氧磷气体浓度超限时系统发出报警信号；设置应急抽排风装置，用于在出现磷源泄露情况时进行应急抽排风，将恒温箱体内的泄露气体排至已连接的尾气处理系统中，从而保证使用安全。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |