基本信息:
- 专利标题： 有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物
- 申请号：CN202010490327.7 申请日：2020-06-02
- 公开(公告)号：CN112034681B 公开(公告)日：2024-08-20
- 发明人： 郡大佑 , 泽村昂志 , 石绵健汰 , 中原贵佳
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人： 刘新宇; 李茂家
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/09
摘要：
本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其无损于树脂原本的碳含量而可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性且成膜性优良，成为散逸气体的升华物成分少，并提供使用此组成物的图案形成方法及适合如此的组成物的聚合物。此组成物含有含式(1A)表示的重复单元作为部分结构的聚合物及有机溶剂。
公开/授权文献:
- CN112034681A 有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 公开/授权日：2020-12-04