基本信息:
- 专利标题： 间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统
- 申请号：CN202010895411.7 申请日：2020-08-31
- 公开(公告)号：CN112000149A 公开(公告)日：2020-11-27
- 发明人： 卢大鹏 , 田宇 , 王远辉 , 董玉玺 , 张宏科
- 申请人： 万华化学集团股份有限公司 , 万华化学(宁波)有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号
- 专利权人： 万华化学集团股份有限公司,万华化学(宁波)有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团股份有限公司,万华化学(宁波)有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号
- 代理机构： 北京信诺创成知识产权代理有限公司
- 代理人： 沈玮玮; 杨仁波
- 主分类号： G05D23/19
- IPC分类号： G05D23/19
摘要：
本发明提供一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统。间歇反应釜温度自动控制方法包括如下步骤：在采样时刻t获取间歇反应釜内的温度检测值vt和PID控制器的温度设定值st，得到采样时刻t对应的偏差变化率，在每一设定周期内，根据相邻两采样时刻的偏差变化率的关系确定间歇反应釜内的控制指标变化时长ti以及与其对应的偏差变化率Δei，根据二者得到设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′；根据三个变化参数更新PID控制器的比例控制参数值、积分控制参数值和微分控制参数值。本发明的以上方案，能够在间歇反应釜反应过程中自动更新PID控制器的各参数，提高PID控制器的控制效率和稳定性。
公开/授权文献:
- CN112000149B 间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统 公开/授权日：2021-07-23
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G05 | 控制；调节 |
| ----G05D | 非电变量的控制或调节系统 |
| ------G05D23/00 | 温度的控制 |
| --------G05D23/19 | .以使用电装置为特征的 |