基本信息:
- 专利标题： 一种产生高通量超衍射极限焦斑的装置和方法
- 申请号：CN201910855176.8 申请日：2019-09-10
- 公开(公告)号：CN111879737A 公开(公告)日：2020-11-03
- 发明人： 匡翠方 , 陈宇宸 , 刘旭 , 徐良 , 郝翔 , 李海峰
- 申请人： 之江实验室 , 浙江大学
- 申请人地址： 浙江省杭州市文一西路1818号
- 专利权人： 之江实验室,浙江大学
- 当前专利权人： 之江实验室,浙江大学
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市文一西路1818号
- 代理机构： 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理人： 米志鹏
- 主分类号： G01N21/64
- IPC分类号： G01N21/64 ; G01N21/21 ; G02B27/58
摘要：
本发明提供一种产生高通量超衍射极限焦斑的方法，包括步骤：1)生成激发光；2)将生成的损耗光调制为空心损耗光；3)将激发光和空心损耗光合束后转换为光束阵列；4)将光束阵列聚焦在样品上进行受激发射损耗生成高通量超衍射极限焦斑扫描样品。本发明还提供一种产生高通量超衍射极限焦斑的装置。本发明相较于现有技术：具有极高的受激发射损耗显微成像速度和激光直写光刻速度；具有低至几十纳米的超高分辨率。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/63 | ..光学激发的 |
| ------------G01N21/64 | ...荧光；磷光 |