基本信息:
- 专利标题： 卷对卷双面曝光装置和双面数字化直写曝光方法
- 申请号：CN202010431942.0 申请日：2020-05-20
- 公开(公告)号：CN111708253A 公开(公告)日：2020-09-25
- 发明人： 唐仁洪 , 汪孝军 , 梅文辉 , 李贵鸿 , 王建新 , 阳强
- 申请人： 中山新诺科技股份有限公司
- 申请人地址： 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一
- 专利权人： 中山新诺科技股份有限公司
- 当前专利权人： 中山新诺科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一
- 代理机构： 广州华进联合专利商标代理有限公司
- 代理人： 张培柳
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H05K3/06
摘要：
本发明涉及一种卷对卷双面曝光装置，包括：放料机构、曝光机构、以及收料机构。放料机构用于承载曝光前的电路板并且以卷料的形式放料；曝光机构包括：滑座、驱动模组、第一曝光模组、以及第二曝光模组；第一曝光模组和第二曝光模组在滑座的带动下同步移动；收料机构用于承载曝光后的电路板并且以卷料的形式收料；放料机构与收料机构配合以拉紧电路板。同时，本发明还提供一种双面数字化直写曝光方法。本发明的有益效果为，利用放料机构和收料机构实现电路板的卷料式供料，并且在曝光机构处实现悬空拉直，免去支撑所需的玻璃板。从硬件上实现两个曝光模组的同步运动，实现连续双面曝光作业，简化了作业流程，提高了工作效率，提高了曝光精度。