基本信息:
- 专利标题： 一种去除石英砂粉中羟基的方法
- 申请号：CN202010283523.7 申请日：2020-04-13
- 公开(公告)号：CN111320177A 公开(公告)日：2020-06-23
- 发明人： 田辉明 , 田正芳 , 黄林勇 , 江军民 , 雷绍民
- 申请人： 黄冈师范学院 , 田辉明
- 申请人地址： 湖北省黄冈市开发区新港二路146号
- 专利权人： 黄冈师范学院,田辉明
- 当前专利权人： 黄冈师范学院,田辉明
- 当前专利权人地址： 湖北省黄冈市开发区新港二路146号
- 代理机构： 武汉科皓知识产权代理事务所
- 代理人： 吴楚
- 主分类号： C01B33/12
- IPC分类号： C01B33/12 ; C03B1/00 ; C03B20/00
摘要：
本发明涉及一种去除石英砂粉中羟基的方法，先将高纯石英物料送入高温真空炉中，升温至1000～1050℃，通入H2或H2与氮气和/或氦气的混合气体作为还原气体，进行高温还原处理，时间不少于2小时，然后开启真空系统，将温度升至1470～1500℃，真空度6.0×10-6～7.0×10-6pa，进行真空脱气处理，时间3～4小时，即得高纯度低羟基石英砂粉物料。该方法制备出的石英砂粉中羟基含量低于3ppm。
公开/授权文献:
- CN111320177B 一种去除石英砂粉中羟基的方法 公开/授权日：2023-09-15