基本信息:
- 专利标题： 屏蔽基元及其制造方法
- 专利标题（英）：Shield element and production of same
- 申请号：CN94118718.7 申请日：1994-11-22
- 公开(公告)号：CN1111899A 公开(公告)日：1995-11-15
- 发明人： 伯恩德·蒂伯尔图斯 , 赫尔穆特·卡尔
- 申请人： 艾米-塔克电子材料有限公司
- 申请人地址： 联邦德国柏林
- 专利权人： 艾米-塔克电子材料有限公司
- 当前专利权人： 艾米-塔克电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 联邦德国柏林
- 代理机构： 柳沈知识产权律师事务所
- 代理人： 马莹
- 优先权： P4340108.2 1993.11.22 DE
- 主分类号： H05K9/00
- IPC分类号： H05K9/00 ; G12B17/02
摘要：
一种用于提高电气，特别是电子功能组件的电磁相容性的屏蔽基元及其制造方法。所述的电气电子功能组件至少部分地被导电屏蔽壳壁所包围或包括带有导电屏蔽部分的印刷电路板。所述的屏蔽基元是构成这种导电屏蔽部分之间的导电密封连接的中间单元，其轴向延伸尺寸比横向剖面尺寸大；并设有一基本上固定的基座(支架)单元，它具有至少一由导电材料构成并直接施放在基座单元的一轴向延伸表面上的可压缩或弹性层或相应的条(束)。
公开/授权文献:
- CN1106137C 屏蔽基元及其制造方法 公开/授权日：2003-04-16
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05K | 印刷电路；电设备的外壳或结构零部件；电气元件组件的制造 |
| ------H05K9/00 | 设备或元件对电场或磁场的屏蔽 |