基本信息:
- 专利标题： 一种蒸发源
- 申请号：CN202010085088.7 申请日：2020-02-10
- 公开(公告)号：CN111188014B 公开(公告)日：2023-02-07
- 发明人： 刘锦东 , 胡海芳 , 关立伟
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理人： 解婷婷; 曲鹏
- 主分类号： C23C14/24
- IPC分类号： C23C14/24
摘要：
本发明公开了一种蒸发源，涉及显示技术领域，包括坩埚，坩埚包括底部和设置于底部周向上的侧壁，底部和侧壁围成一端开口的容置腔；盖体，扣设开口，并与侧壁连接；喷嘴，固定连接于盖体远离容置腔的一侧，并与容置腔连通。本发明实施例通过将喷嘴和盖体固定连接，实现了喷嘴与盖体之间无螺纹结构，避免了蒸发源内蒸发材料的泄露，提升了镀膜工艺的稳定性和成膜的均一性，以及真空镀膜设备的稼动率。
公开/授权文献:
- CN111188014A 一种蒸发源 公开/授权日：2020-05-22