基本信息:
- 专利标题： 一种微滤制作α源装置及微滤制作α源的方法
- 申请号：CN201911224414.1 申请日：2019-12-04
- 公开(公告)号：CN111081408A 公开(公告)日：2020-04-28
- 发明人： 谢云 , 王钟堂 , 李茂辉 , 曾俊辉 , 黄召亚
- 申请人： 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
- 申请人地址： 四川省绵阳市919信箱215分箱
- 专利权人： 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
- 当前专利权人： 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
- 当前专利权人地址： 四川省绵阳市919信箱215分箱
- 代理机构： 中国工程物理研究院专利中心
- 代理人： 翟长明; 韩志英
- 主分类号： G21G4/04
- IPC分类号： G21G4/04 ; B01D61/00 ; G01T7/00
摘要：
本发明公开了一种微滤制作α源装置，在Pu、Am等α核素制源溶液中加入一定量的La/Ce/Nd溶液，然后加入还原剂——分析纯三氯化钛，再加入一定量氢氟酸，充分反应使得Pu、Am等和LaF3/CeF3/NdF一起形成微沉淀，然后抽滤把微沉淀沉积在制源滤膜上，形成厚度均匀的纳米薄膜源，采用低本底α谱仪进行各核素同位素高分辨测量。本发明的α源批量微滤制作装置满足了液体微沉淀制源要求。本发明还公开了一种微滤制作α源的方法，实现了批量化、标准化操作，减少了分析人员的工作量，解决了α源抽滤制作过程中不可控因素，降低了工作人员的放射性摄入剂量和工作量；该装置及方法适用于来源于各种情况产生的样品形成液体溶液制α固体平面源的批量制作。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G21 | 核物理；核工程 |
| ----G21G | 化学元素的转变；放射源； |
| ------G21G4/00 | 放射源 |
| --------G21G4/04 | .除中子源外其他的放射源 |