![回转体外表面抛光装置](/CN/2019/1/230/images/201911153391.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 回转体外表面抛光装置
- 申请号:CN201911153391.X 申请日:2019-11-22
- 公开(公告)号:CN111015489A 公开(公告)日:2020-04-17
- 发明人: 刘慧锋 , 田俊虎 , 赵建文 , 李泽云 , 张帅 , 焦永久 , 张植栋 , 李泽宇
- 申请人: 山西迪迈沃科光电工业有限公司
- 申请人地址: 山西省太原市综改示范区太原学府园区亚日街7号环亚时代广场B座
- 专利权人: 山西迪迈沃科光电工业有限公司
- 当前专利权人: 山西迪迈沃科光电工业有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省太原市综改示范区太原学府园区亚日街7号环亚时代广场B座
- 代理机构: 太原晋科知识产权代理事务所
- 代理人: 任林芳
- 主分类号: B24B29/04
- IPC分类号: B24B29/04
摘要:
本发明属于变径类回转体工件的外表面清理抛光技术领域,具体是一种回转体外表面抛光装置。解决了现有抛光机难以满足变径柱类回转体无法使用砂纸、钢丝刷类型的抛光工具的问题,包括打磨组件、驱动组件、径向压紧组件、石英砂收集斗放置架、石英砂收集框以及石英砂导向漏斗,打磨组件、驱动组件以及径向压紧组件安装在设备安装底板上,驱动组件上安装产品,产品一侧设置打磨组件,产品另一侧安装径向压紧组件,设备安装底板下方安装石英砂导向漏斗,石英砂导向漏斗下方设置石英砂收集框,石英砂收集框固定在石英砂收集斗放置架上。本发明实现了对变径回转体的外表面抛光。
公开/授权文献:
- CN111015489B 回转体外表面抛光装置 公开/授权日:2021-05-18