基本信息:
- 专利标题： 一种甲烷合成工艺
- 申请号：CN201911195383.1 申请日：2019-11-28
- 公开(公告)号：CN110981677B 公开(公告)日：2022-11-01
- 发明人： 潘志钢 , 何巍 , 邱一鑫 , 吕彬峰 , 冯政涵 , 杨军兵
- 申请人： 浙江天禄环境科技有限公司
- 申请人地址： 浙江省衢州市衢江区东迹大道182号102室
- 专利权人： 浙江天禄环境科技有限公司
- 当前专利权人： 浙江天禄环境科技有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省衢州市衢江区东迹大道182号102室
- 代理机构： 杭州敦和专利代理事务所
- 代理人： 姜术丹
- 主分类号： C07C1/04
- IPC分类号： C07C1/04 ; C07C9/04
摘要：
本发明公开一种甲烷合成工艺，包括以下步骤：(1)通过气化还原工艺将低阶煤，制备得到净化气，往第一反应器中加入净化气，预热净化气，使得净化气的温度为150‑500℃；(2)将步骤(1)得到的净化气作为第一甲烷合成料，进入第二反应器，在第二反应器中，在第一耐高温甲烷催化剂存在的环境中，第一甲烷合成料的一氧化碳、二氧化碳和氢气反应，合成甲烷，得到第一甲烷物流，从而得到第一甲烷产品物流；本发明的甲烷合成工艺，通过将低阶煤中气化还原获得甲烷合成原料所需的CO和H2，来制备甲烷，甲烷中的杂质少，质量高，充分有效地利用了低阶煤中的挥发分和煤质，而且制造甲烷原料丰富，成本较低，符合国家煤炭综合利用方向。
公开/授权文献:
- CN110981677A 一种甲烷合成工艺 公开/授权日：2020-04-10