基本信息:
- 专利标题： 鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法
- 申请号：CN201910920497.1 申请日：2019-09-27
- 公开(公告)号：CN110963952B 公开(公告)日：2022-10-21
- 发明人： 大桥正树 , 本田和也 , 须贺祐辉 , 计良祐纪
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理人： 贾成功
- 优先权： 2018-183103 20180928 JP
- 主分类号： C07C381/12
- IPC分类号： C07C381/12 ; C07C317/12 ; C07C25/18 ; C07C317/04 ; C07C317/08 ; C07C317/18 ; C07C317/14 ; C07C317/24 ; C07D327/08 ; C07D333/76 ; C07D279/20 ; C07D335/16 ; C07D339/08 ; C07D335/12 ; C07D333/08 ; C07D335/02 ; C07D327/06 ; C07C211/63 ; C07C211/64 ; C07D277/10 ; C07C215/40 ; C07D487/18 ; G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R1、R2和R3各自为含有除氟以外的杂原子的C1‑C20一价烃基，Z+为锍、碘鎓或铵阳离子。
公开/授权文献:
- CN110963952A 鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法 公开/授权日：2020-04-07
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C381/00 | 含碳和硫并且有不包括在C07C310/00至C07C337/00组中的官能团的化合物 |
| --------C07C381/12 | .锍化物 |