基本信息:
- 专利标题： 化合物、化合物的制备方法及有机膜形成用组合物
- 专利标题（英）：COMPOUND, METHOD FOR MANUFACTURING THE COMPOUND, AND COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM
- 申请号：CN201910539260.9 申请日：2019-06-20
- 公开(公告)号：CN110627600A 公开(公告)日：2019-12-31
- 发明人： 橘诚一郎 , 渡边武 , 新井田惠介 , 长井洋子 , 泽村昂志 , 荻原勤 , 亚历山大·爱德华·赫斯 , 格雷戈里·布雷塔 , 丹尼尔·保罗·桑德斯 , 鲁迪·J·沃伊泰茨基
- 申请人： 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 信越化学工业株式会社,国际商业机器公司
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社,国际商业机器公司
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理人： 张晶; 谢顺星
- 优先权： 16/013,672 2018.06.20 US
- 主分类号： C07C1/26
- IPC分类号： C07C1/26 ; C07C13/567 ; C07C15/02 ; C07C13/62 ; C07C13/66 ; C07D221/16 ; C07D519/00 ; C07C15/50 ; C07C41/30 ; C07C43/21 ; C07C43/285 ; C07D307/91 ; C07D209/86 ; C07D333/08 ; C07D311/82 ; C07D335/12 ; C07C209/68 ; C07C211/55 ; C07C29/32 ; C07C35/38 ; C07C37/16 ; C07C39/225 ; G03F7/004
Provided are a compound, a method for manufacturing the compound, and a composition for forming an organic film. This compound can be cured even in an inert gas not only in air atmosphere without forming byproducts, and can form an organic under layer film that has good dry etching durability in substrate processing as well as excellent heat resistance and gap filling/planarizing characteristics of a pattern formed on a substrate. The compound has two or more structures shown by the following general formula (1-1) in the molecule, wherein Ar represents an aromatic ring or an aromatic ring thatcontains at least one nitrogen atom and/or sulfur atom optionally having a substituent, and two Ars are optionally bonded with each other to form a ring structure; the broken line represents a bond with Y; Y represents a divalent or trivalent organic group having 6 to 30 carbon atoms that contains an aromatic ring or a heteroaromatic ring optionally having a substituent, the bonds of which are located in a structure of the aromatic ring or the heteroaromatic ring; R represents a hydrogen atom or a monovalent group having 1 to 68 carbon atoms.
公开/授权文献:
- CN110627600B 化合物、化合物的制备方法及有机膜形成用组合物 公开/授权日：2022-07-01
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C1/00 | 从一种或几种非烃化合物制备烃 |
| --------C07C1/26 | .从只含卤素杂原子的有机化合物开始 |