![化合物及有机膜形成用组合物](/CN/2019/1/107/images/201910539258.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 化合物及有机膜形成用组合物
- 申请号:CN201910539258.1 申请日:2019-06-20
- 公开(公告)号:CN110615732B 公开(公告)日:2023-08-08
- 发明人: 橘诚一郎 , 渡边武 , 新井田惠介 , 长井洋子 , 泽村昂志 , 荻原勤 , 亚历山大·爱德华·赫斯 , 格雷戈里·布雷塔 , 丹尼尔·保罗·桑德斯 , 鲁迪·J·沃伊泰茨基
- 申请人: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
- 申请人地址: 日本东京都;
- 专利权人: 信越化学工业株式会社,国际商业机器公司
- 当前专利权人: 信越化学工业株式会社,国际商业机器公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都;
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理人: 张晶; 谢顺星
- 主分类号: C07C43/21
- IPC分类号: C07C43/21 ; C07C41/30 ; C07C41/16 ; C07C49/84 ; C07C45/64 ; C07C43/23 ; C07D213/80 ; C07D221/16 ; G03F7/004
摘要:
本发明提供一种化合物,其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物,耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异,且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1‑1)所示的化合物。[化学式1]式中,AR1、AR2表示芳香环或含有氮原子、硫原子中的1个以上的芳香环,2个AR1、AR1与AR2、2个AR2可连接;AR3为苯环、萘环、噻吩环、吡啶环或二嗪环;A为有机基团,B为阴离子性离去基团,Y为2价有机基团,p为1或2,q为1或2,r为0或1,s为2~4;s=2时,Z为单键、2价原子或2价有机基团,s=3或4时,Z为3价或4价的原子或有机基团。
公开/授权文献:
- CN110615732A 化合物及有机膜形成用组合物 公开/授权日:2019-12-27
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C07 | 有机化学 |
----C07C | 无环或碳环化合物 |
------C07C43/00 | 醚;含有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物 |
--------C07C43/02 | .醚 |
----------C07C43/03 | ..所有的醚—氧原子都连接在非环碳原子上 |
------------C07C43/21 | ...含六元芳环以外的环 |