基本信息:
- 专利标题： 掩模版及其制造方法、光刻方法、显示面板、曝光装置
- 专利标题（英）：Mask plate and manufacturing method thereof, photoetching method, display panel and exposure device
- 申请号：CN201910917191.0 申请日：2019-09-26
- 公开(公告)号：CN110531579A 公开(公告)日：2019-12-03
- 发明人： 王登峰 , 芮洲 , 周茂秀 , 杨海鹏 , 郭磊 , 陈琳
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京风雅颂专利代理有限公司
- 代理人： 李莎
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G02B5/22 ; G03F7/20 ; G03F7/004
摘要：
本发明公开了一种掩模版，至少包括：第一透光区，设置有第一滤光膜；第二透光区，设置有第二滤光膜；其中，所述第一滤光膜和第二滤光膜能够滤除的光线的频率范围不同。本发明还公开了一种掩模版制造方法、光刻方法、显示面板、显示装置和曝光装置。
摘要（英）：
The invention discloses a mask plate. The mask plate at least comprises a first light-transmitting area provided with a first light filtering film, and a second light-transmitting area provided with asecond light filtering film, wherein frequency ranges of light rays which can be filtered by the first light filtering film and the second light filtering film are different. The invention further discloses a mask manufacturing method, a photoetching method, a display panel, a display device and an exposure device.