![一种制备窄间距的手性微纳结构的方法](/CN/2019/1/167/images/201910839132.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种制备窄间距的手性微纳结构的方法
- 申请号:CN201910839132.6 申请日:2019-09-05
- 公开(公告)号:CN110515280B 公开(公告)日:2021-08-13
- 发明人: 张中月 , 白瑜 , 唐先龙 , 景志敏 , 李颖
- 申请人: 陕西师范大学
- 申请人地址: 陕西省西安市长安区西长安街620号
- 专利权人: 陕西师范大学
- 当前专利权人: 陕西师范大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市长安区西长安街620号
- 代理机构: 重庆萃智邦成专利代理事务所
- 代理人: 竺栋
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明涉及微纳结构制备领域,具体涉及一种制备窄间距的手性微纳结构的方法,主要制备步骤包括涂覆光刻胶、电子束曝光、显影定影、倾斜蒸镀金属材料和剥离光刻胶。制备的过程中曝光较大尺寸的图形,通过倾斜蒸镀就可以制备出窄间距的金属微纳结构,并且该结构的参数可以通过蒸镀束流的角度和蒸镀时间进行调节。该制备方法操作简便,避免了制备小间距结构需要很高的工艺要求。
公开/授权文献:
- CN110515280A 一种制备窄间距的手性微纳结构的方法 公开/授权日:2019-11-29