基本信息:
- 专利标题： 一种阵列基板、其制备方法及显示装置
- 申请号：CN201910121524.9 申请日：2019-02-19
- 公开(公告)号：CN109712996A 公开(公告)日：2019-05-03
- 发明人： 刘弘 , 王凤国 , 方业周 , 武新国 , 赵晶 , 郭志轩 , 马波 , 李凯 , 田亮 , 王海东
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理人： 郭润湘
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1345
摘要：
本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，由于上述周边区域的多条金属走线一般围绕透光区域进行设置，并且由于各金属走线之间的布线较密，在进行光照时容易发生反射，并产生光的相干衍射现象，造成周边区域的明暗相间的条纹不良。因此，本发明通过在上述周边区域的金属走线与衬底基板之间设置在衬底基板上的正投影覆盖金属走线的第一遮光部，该第一遮光部能够遮挡光源照射至各金属走线，从而可以解决周边区域出现明暗相间的条纹不良的问题，提高显示效果。