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基本信息:
- 专利标题: 工件加工设备
- 申请号:CN201780055593.3 申请日:2017-08-10
- 公开(公告)号:CN109690727B 公开(公告)日:2020-11-06
- 发明人: 葛兰·FR·吉尔克里斯特 , 梁树荣
- 申请人: 瓦里安半导体设备公司
- 申请人地址: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号(邮递区号:01930)
- 专利权人: 瓦里安半导体设备公司
- 当前专利权人: 瓦里安半导体设备公司
- 当前专利权人地址: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号(邮递区号:01930)
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人: 杨贝贝; 臧建明
- 优先权: 15/262,471 2016.09.12 US
- 国际申请: PCT/US2017/046207 2017.08.10
- 国际公布: WO2018/048566 EN 2018.03.15
- 进入国家日期: 2019-03-11
- 主分类号: H01J37/305
- IPC分类号: H01J37/305 ; H01J37/304
摘要:
本发明公开一种能够对带电离子的提取角度及反应性中性粒子的提取角度进行独立控制的工件加工设备。所述设备包括具有提取开孔的提取板,带电离子通过所述提取开孔。可使用等离子体鞘调制及电场来确定带电离子的提取角度。提取板还包括与提取开孔分开的一个或多个中性物质通道,反应性中性粒子是以所选择提取角度通过所述一个或多个中性物质通道。所述中性物质通道的几何构造决定反应性中性粒子的提取角度。中性物质通道还可包括用于减少通过中性物质通道的带电离子的数目的抑制器。所述设备可用于各种应用,例如定向反应性离子蚀刻。
公开/授权文献:
- CN109690727A 自由基与反应性中性离子束的角度控制 公开/授权日:2019-04-26
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01J | 放电管或放电灯 |
------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
--------H01J37/02 | .零部件 |
----------H01J37/305 | ..用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的 |