基本信息:
- 专利标题： 蒸镀用金属掩模基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法
- 申请号：CN201811311762.8 申请日：2016-07-15
- 公开(公告)号：CN109440060B 公开(公告)日：2021-06-29
- 发明人： 田村纯香 , 新纳干大 , 藤户大生 , 西辻清明 , 西刚广 , 三上菜穗子
- 申请人： 凸版印刷株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人： 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理人： 戚宏梅
- 优先权： 2015-143509 20150717 JP 2015-171440 20150831 JP 2016-079099 20160411 JP
- 主分类号： C23C14/04
- IPC分类号： C23C14/04 ; C23C14/24 ; H01L51/56 ; C25D1/10 ; C23F1/02
摘要：
蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
公开/授权文献:
- CN109440060A 蒸镀用金属掩模基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法 公开/授权日：2019-03-08