基本信息:
- 专利标题： 相移掩模及使用该相移掩模的抗蚀图案形成方法
- 申请号：CN201811233402.0 申请日：2013-02-15
- 公开(公告)号：CN109298591A 公开(公告)日：2019-02-01
- 发明人： 木下一树 , 飞田敦
- 申请人： 大日本印刷株式会社
- 申请人地址： 日本国东京都
- 专利权人： 大日本印刷株式会社
- 当前专利权人： 大日本印刷株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国东京都
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 吴秋明
- 优先权： 2012-030953 2012.02.15 JP
- 主分类号： G03F1/34
- IPC分类号： G03F1/34
摘要：
本发明提供一种可使用现有的图像显示装置制造用曝光装置，在透明基板等被加工材上，以高精度形成具有未达到该曝光装置分辨率极限的尺寸的给定抗蚀图案的相移掩模及使用该相移掩模的抗蚀图案形成方法。未达到曝光装置分辨率极限的设计尺寸的抗蚀图案形成用相移掩模具备：透明基板、对来自曝光装置的曝光的光赋予给定的相位差的相移部、以及邻接于相移部的非相移部，相移部及非相移部当中的至少任一者为未达到曝光装置分辨率极限的尺寸，且相移部的尺寸与非相移部的尺寸不同，透明基板上的包含相移部及非相移部在内的图案区域的大小是一边为300mm以上，至少在图案区域内不含未达到曝光装置分辨率极限的尺寸的遮光部。