基本信息:
- 专利标题： 发光模组及其制造方法、直下式背光源
- 申请号：CN201811211272.0 申请日：2018-10-17
- 公开(公告)号：CN109164638B 公开(公告)日：2021-12-10
- 发明人： 李德怀
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 杨广宇
- 主分类号： G02F1/13357
- IPC分类号： G02F1/13357
摘要：
本发明公开了一种发光模组及其制造方法、直下式背光源，属于显示技术领域。包括：印制电路板PCB，以及阵列排布在所述PCB上的多个发光单元，每个所述发光单元包括点光源，所述点光源包括发光结构和位于所述发光结构周围的封装结构；所述PCB上设置有所述多个发光单元的一面上设置有第一反射层，所述封装结构远离所述PCB的一面上设置有第二反射层，所述第一反射层的反射率大于所述第二反射层的反射率。本发明提高了发光模组的出光均匀性，进而提高了直下式背光源的出光均匀性。
公开/授权文献:
- CN109164638A 发光模组及其制造方法、直下式背光源 公开/授权日：2019-01-08
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02F | 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器 |
| ------G02F1/00 | 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学 |
| --------G02F1/01 | .对强度、相位、偏振或颜色的控制 |
| ----------G02F1/09 | ..基于磁—光元件的，例如，呈现法拉第效应的 |
| ------------G02F1/133 | ...构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置 |
| --------------G02F1/1333 | ....构造上的设备 |
| ----------------G02F1/1335 | .....与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器、反射器 |
| ------------------G02F1/13357 | ......照明装置 |