基本信息:
- 专利标题： 抗蚀剂下层膜形成用组合物
- 申请号：CN201780025998.2 申请日：2017-04-11
- 公开(公告)号：CN109073977B 公开(公告)日：2022-04-05
- 发明人： 境田康志 , 高濑显司 , 岸冈高广 , 坂本力丸
- 申请人： 日产化学株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理人： 王磊; 段承恩
- 优先权： 2016-091527 20160428 JP
- 国际申请： PCT/JP2017/014849 2017.04.11
- 国际公布： WO2017/187969 JA 2017.11.02
- 进入国家日期： 2018-10-26
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; H01L21/027
摘要：
本发明的课题是提供常温下的保存稳定性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：含氮化合物、聚合物、促进交联反应的化合物和有机溶剂，1分子所述含氮化合物中具有2～6个与氮原子键合的下述式(1)所示的取代基。1分子中具有2～6个所述式(1)所示的取代基的含氮化合物为例如下述式(1A)所示的甘脲衍生物。(式中，R1各自独立地表示甲基或乙基，R2和R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、或苯基。)
公开/授权文献:
- CN109073977A 抗蚀剂下层膜形成用组合物 公开/授权日：2018-12-21