![一种纳米限域原位生长制备ZIF-8@氧化石墨烯杂化膜的方法](/CN/2018/1/215/images/201811076622.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种纳米限域原位生长制备ZIF-8@氧化石墨烯杂化膜的方法
- 申请号:CN201811076622.7 申请日:2018-09-14
- 公开(公告)号:CN109012224B 公开(公告)日:2021-07-02
- 发明人: 安全福 , 张文海 , 金成刚 , 王乃鑫 , 纪树兰
- 申请人: 北京工业大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 代理机构: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- 代理人: 张立改
- 主分类号: B01D69/12
- IPC分类号: B01D69/12 ; B01D71/02 ; B01D67/00 ; B01D61/02 ; C02F1/44 ; C02F101/38
摘要:
一种纳米限域原位生长制备ZIF‑8@氧化石墨烯杂化膜的方法,属于膜分离领域。主要包括以下步骤:对多孔基膜进行预处理,去除其表面有机物、无机物和微生物;将GO粉末分散在去离子水中,利用超声离心的方式,配置GO分散液;采用抽滤沉积的方式,将GO组装至多孔基膜表面,制备湿态的GO复合膜;将所得的湿态GO复合膜利用冷冻干燥技术制备出疏松结构的GO复合膜;将六水合硝酸锌和2‑甲基咪唑配置成ZIF‑8前驱体溶液;将前驱体溶液填充至膜内和表面,并采用碱液成核结晶,构建ZIF‑8@f‑GO杂化膜。用于水中染料、高价盐、有机体系中小分子的分离以及气体分离,具有良好的分离性和稳定性。
公开/授权文献:
- CN109012224A 一种纳米限域原位生长制备ZIF-8@氧化石墨烯杂化膜的方法 公开/授权日:2018-12-18
IPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
----B01D | 分离 |
------B01D69/00 | 以形状、结构或性能为特征的用于分离工艺或设备的半透膜;其专用制备方法 |
--------B01D69/12 | .复合膜;超薄膜 |