基本信息:
- 专利标题： 掩模组件的制造方法
- 专利标题（英）：Manufacturing method of mask assembly
- 申请号：CN201810089595.0 申请日：2018-01-30
- 公开(公告)号：CN108374147A 公开(公告)日：2018-08-07
- 发明人： 金桢国 , 任星淳 , 黄圭焕 , 金圣哲 , 文英慜
- 申请人： 三星显示有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 王达佐; 刘铮
- 优先权： 10-2017-0014102 2017.01.31 KR
- 主分类号： C23C14/30
- IPC分类号： C23C14/30 ; C23C14/02 ; C23C14/14 ; C23C14/04 ; H01L51/56
The invention relates to a manufacturing method of a mask assembly. The method includes the steps of: preparing a carrier substrate; coating the carrier substrate with a first photoresist; patternizing the first photoresist to form a first photoresist pattern; coating the carrier substrate and the first photoresist with a second photoresist; patternizing the second photoresist to form a second photoresist pattern; depositing a metal layer onto the carrier substrate; removing the metal layer on the first photoresist pattern and second photoresist pattern; and separating the carrier substrate and the metal layer to form separated mask; herein, the first photoresist is a positive photoresist while the second photoresist is a negative photoresist.
公开/授权文献:
- CN108374147B 掩模组件的制造方法 公开/授权日：2021-12-03